Opis proizvoda
PEES (pEES) nosi kiselo labilnu etoksietoksi zaštitnu skupinu, koja se može brzo ukloniti pod kiselom katalizom. Odlikuje ga dobra toplinska stabilnost i ultraniska količina metalnih nečistoća. Može se polimerizirati za pripremu polihidroksistirena (PHS) za KrF kemijski pojačan fotorezist visoke rezolucije.
Specifikacija proizvoda
| Naziv proizvoda | PEES/4-(etoksietoksi)stiren |
| CAS BR | 157057-20-0 |
| STAVKA BR | M120 |
| Izgled | Bezbojna bistra tekućina |
| Čistoća | Veći ili jednak 99% |
| Sadržaj vode | Manje od ili jednako 0,05 % |
| Nečistoće metalnih iona | Manje od ili jednako 1 ppb |
| Paket | 100g/1kg/10kg itd. |
| Dostava | 2-3 dana |
| Skladištenje | sobna temperatura |
| MSDS/COA/TDS | Povežite nas |
Primjena proizvoda
PEES (p-(1-Ethoxyethoxy) styrene) se uglavnom koristi za sintezu KrF fotorezistentne smole u poluvodičkoj mikroelektronici, funkcionalnim polimernim materijalima i naprednoj industriji istraživanja i razvoja novih materijala.
FAQ
P: Koji su zahtjevi za pohranu PEES-a?
O: Stabiliziran TBC inhibitorom. Čuvati zatvoreno na 2~8 stupnjeva daleko od svjetlosti. Izolirajte izvor zraka i topline kako biste spriječili samopolimerizaciju vinila i prerano uklanjanje zaštite kiselinom.
P: Koji je princip PEES monomera u KrF fotorezist sustavu smole?
O: PEES sadrži etoksietoksi zaštitnu skupinu osjetljivu na kiseline. Fotokiselina nastala nakon izlaganja litografiji aktivira deprotekciju. Smola se mijenja iz netopive u alkalijama u topljivu u alkalijama kako bi se ostvario razvoj uzorka pločice.
P: Koja je zaštita potrebna za rad PEES-a prema SDS-u?
O: Nadražuje oči, kožu i dišne puteve. Rad treba izvoditi u napi sa zaštitnim naočalama, rukavicama otpornim na otapala i štitnikom za lice.
P: Koja je temeljna razlika između PEES i pACS/PTBS fotorezistentnih monomera?
O: PEES ima etoksietoksi zaštitnu skupinu s brzom stopom deprotekcije kiseline. pACS treba hidrolizu za uklanjanje zaštite, PTBS ima tert-butoksi skupinu. Dizajnirani su za različite osjetljivosti fotorezista.
P: Što se događa sa kiselo-labilnom zaštitnom skupinom PEES monomera tijekom izlaganja KrF fotorezistu?
O: Fotokiselina se stvara nakon izlaganja. Etoksietoksi zaštitna skupina brzo se cijepa. Polimer se pretvara u fenolnu hidroksilnu strukturu, mijenjajući se iz netopivog u alkalijama u topljivi u alkalijama za razvoj litografskog uzorka.
Popularni tagovi: cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)stiren, Kina cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)stiren proizvođači, dobavljači
